半导体薄膜与纳米材料研究组

仪器设备

    半导体薄膜与纳米材料研究室在叶志镇教授的主持下,1992年自行创建了国内第一台超高真空CVD外延设备,在国内率先开辟了一个利用超高真空CVD新技术低温生长优质半导体薄膜材料的研究领域。在教育部、科技部和浙江大学等相关部门的大力支持下,经过多年建设,本课题组拥有国内薄膜制备领域领先的实验条件。目前建成脉冲激光沉积实验室、MOCVD实验室、射频磁控溅射实验室和纳米材料实验室等各类实验室共12间,拥有多套PLD、MOCVD、CVD等薄膜制备设备以及XRD、SEM、PL、HALL、IV-CV等各类测试设备。新型的MBE系统和配套的超净室、蒸镀电极系统正在建设中。本课题组实验室全部采用无紫外辐射的荧光灯照明系统。

脉冲激光沉积系统(PLD)

高真空MOCVD薄膜制备系统(配RF源)

超高真空CVD系统

射频磁控溅射系统

MBE

电子束蒸发

RTP快速退火炉

PL光谱测试系统(Edinburgh FLS920)

 

霍尔参数测试仪(BIO-RAD HL5500)

安捷伦IV测试仪(Agilent E5270)

X射线衍射仪(Bede D1)

SIRION场发射扫描电镜

纳米材料实验室1

纳米材料实验室2